上海微电子28纳米光刻机研发成功

2023年9月9日，上海微电子研发的28纳米浸没式光刻机的成功问世，标志着国内在光刻机领域迈出了坚实的一步。

28纳米光刻机对应的0.000000028米用科学记数法表示为2.8×10⁻⁸米。这一成果的取得并非偶然，它是国内科研人员多年努力的结果。在研发过程中，科研团队攻克了诸多技术难题，如光源技术、光刻镜头制造等。

在光源技术领域，国内已取得显著进展。光源作为光刻机的核心部件，科研团队正致力于研发适合本土光刻机的光源技术，并逐步缩小与国际领先水平的差距。例如，在准分子激光光源技术方面，国内已实现一定程度的自给自足，并持续提升光源的性能指标，如功率和稳定性。

同时，在光刻镜头制造方面，国内也在不断提升技术水平。光刻镜头对精度要求极高，通过自主研发与技术引进的消化吸收再创新，国内已能制造出满足部分中低端光刻机需求的镜头，并正努力向高端镜头制造技术迈进。

上海微电子28纳米光刻机的成功研发，为国内芯片制造业的发展提供了有力支持。它将有助于提高国内芯片的自主生产能力，降低对国外高端光刻机的依赖，推动国内半导体产业的升级和发展。